公司简介
发展历程
通过国家发改委窗口指
导审核
在青成立
WOW研发良率已达99%
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工艺平台
物元具备铜 - 铜混合键合(Cu - Cu hybrid bond)、晶圆减薄(Grinding)、高精度对准以及硅穿孔(TSV)等关键技术。基于这些技术,能够实现wafer on wafer 以及Chip on wafer 等3D晶圆堆叠中道工艺。
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